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ターゲット材・蒸着材料
高純度､均一組織、高密度、低ガス成分のターゲット材・蒸着材料
用途、製造方法、要求される性能などに応じ、さまざまなタイプのターゲット材料・蒸着材料をご用意します。
ラインアップ
スパッタリングターゲット・蒸着材料
| 材質 |
合金 取扱 |
純度 | 主な用途 | ||||||||||
|
3N 99.9% |
3N5 99.95% |
4N 99.99% |
≧4N ≧99.99% |
硬質摺動 | 装飾 | 配線 | 耐食 | 密着 | 拡散防止 | 光学 | |||
| Ni | あり | ● | ● | ● | 〇 | 〇 | 〇 | ||||||
| Ti | あり | ● | ● | ●(4N5) | 〇 | 〇 | 〇 | 〇 | 〇 | 高屈折 | |||
| Cu | あり | ● | 〇 | ||||||||||
| Cr | あり | ● | ● | ● | 〇 | 〇 | 〇 | ||||||
| Al | 一部 | ● | ●(5N5) | 〇 | |||||||||
| Si | 一部 | ●(5N) | ガスバリア | 低屈折 | |||||||||
| Nb | なし | ● | 〇 | 高屈折 | |||||||||
| Mo | なし | ●(3N7) | 〇 | 〇 | 〇 | 〇 | |||||||
その他の純金属（Fe4N、Ta、Zr、Hf、C（グラファイト）、WC等）バッキングプレートなど
イオンプレーティング用ターゲット
| ターゲット材質 | ||||||
| Ti | Ti-Al | Ti-X※ | Ti-Al-X※ |
※X=添加元素 (B,C,Co,Cr,Mo,Si,V,W,Nb,ZrNi 他) |
||
| Cr | Cr-Al | Cr-X※ | Cr-Al-X※ | |||
その他の純金属（Zr、WC等）、フィラメントなど
形状例
平板ターゲット材
幅50～300㎜ｘ長さ300～3000㎜
幅50～300㎜ｘ長さ300～3000㎜
円盤ターゲット材
φ1～12インチ/φ25～350㎜
φ1～12インチ/φ25～350㎜
円筒ターゲット材
外径100～180㎜ｘ長さ500～2000㎜
外径100～180㎜ｘ長さ500～2000㎜
蒸着用インゴット・ペレット
例：φ50mm、10x10x10mm、φ13x10m
例：φ50mm、10x10x10mm、φ13x10m
ご使用の装置に合わせた最適な形状に加工いたします。上記寸法以外もお問い合わせ下さい。
工程例
